BT财经
rss
DUV曝光
不用EUV!长鑫科技靠DUV四重曝光逼近三星1c工艺
长鑫科技G5平台正式量产,无EUV靠DUV四重曝光将半间距微缩至11.95纳米,逼近三星1c工艺水平。
2026-09-20 18:03:36
相关主题:
长鑫存储
DRAM芯片
国产替代
半导体制造
DUV曝光
© Copyright 2026 BT财经.