一研究团队在纳米芯片制造得突破性进展，发明热扫描探针光刻

1月28日消息，据外媒报道，一个由美国纽约大学坦顿工程学院化学和生物分子工程教授Riedo领导的国际研究团队，在一份报告中称，他们在纳米芯片制造方面取得了突破性的进展。

这一突破性进展将对纳米芯片的的制造以及世界各地的纳米技术实验室产生重大的影响。

该研究小组发现，相比在二硫化钼等二维半导体上制造金属电极的标准方法，用温度加热到到100摄氏度以上的探针进行光刻效果将更好。

该研究小组发明的纳米芯片新制造方法--热扫描探针光刻(t-SPL)，比现在使用的电子束光刻(EBL)具有更多优势。如，热扫描探针光刻提高了二维晶体管的质量。另外，相比EBL，热扫描探针光刻技术允许芯片设计者对二维半导体进行成像，然后，可以在需要的地方进行电极绘制，而且还很简便。

在纽约大学的坦顿工程学院实验室，Riedo教授及其博士生利用他们发明的热扫描探针光刻技术以及Swiss Litho公司设备，成功制造了高质量的2D芯片。

Riedo教授称，希望热扫描探针光刻技术能够将把纳米芯片制造大部分的制造工作，从稀有的干净房间转移到一般的实验室，以便研究人员能够快速地推进材料科学和芯片设计的研究。